所有项目里面最重要的一环是光刻机，光刻机是半导体制造中的核心设备。′精!武￠小?说*网~ ?更·新+最_全,

手机虽然不是半导体，而是一种电子设备。但是手机中实现各种功能的核心材料是半导体，半导体用于制造处理器、内存、芯片等关键组件。

手机通过这些半导体元件的协同工作，能够实现计算、存储、通信等多种功能。因此，手机是半导体技术的应用载体。

李漫漫优先负责光刻机项目，除了光刻机还有就是芯片的制造。

制作光刻机很难，光刻机的难度体现在它需要将量子物理、超精密机械、材料科学、控制工程等领域的极限技术整合到一个可量产的系统中。

其技术壁垒不仅是单项突破，更是全球供应链、长期研发积累和跨学科协作的结果。′新+完.本?神~站￠ -已~发¨布-最′新*章^节\

目前，即使拥有全套图纸，其他国家也难以在短期内复制，这充分体现了其“人类工业皇冠”的地位。

其实大多数人对李漫漫的项目不是很看好，毕竟光刻机和芯片制造技术难度太大。

可是李漫漫是唯一一个保证3年内能将光刻机制作出来的人，要知道很多实验室都没有这个信心。

上面觉得就算李漫漫没有造出光刻机，但只要某些技术方面突破都算成功。

如果李漫漫像普通的天才一样，李漫漫绝对不敢这样，但是李漫漫拥有领先几个世纪的技术，所以李漫漫敢立下军令状。

这是一场极限的挑战。

比如EUV光刻使用13.5纳米的极紫外光。?¤微?趣.o小¤>说_网@×e ?>追!最$1新!章%[×节?))反射镜表面粗糙度需小于0.1纳米，若将镜面放大到地球大小，瑕疵高度不能超过1厘米。

反射镜需交替镀40-60层硅和钼，每层厚度误差需控制在0.01纳米以内，否则光路偏差会导致芯片图案失效。

晶圆台和掩模台需以纳米精度同步移动，速度达1m/s以上，定位误差小于1纳米。

设备需隔绝外界振动，温度波动需控制在0.001°C以内，否则光学元件热胀冷缩会破坏精度。

这些都是极其难以攻克的。

一台EUV光刻机重达180吨，包含超过10万个零件。

要知道后来全球仅ASML能生产EUV光刻机的原因是依赖国际协作，单一国家难以复制全产业链，最主要的核心部件都掌握在欧美国家手中。

这10万个零件并非李漫漫一个人完成，不然李漫漫到死也完成不了。

其实大部分华国现在是可以做出来的，现在只差里面的核心技术。

李漫漫只要攻克这些核心技术即可。

这次研究不在首都，要去沪市。

沪市现在有着华国最好的光电所之一，里面有几位院士坐镇。

再去沪市之前，李漫漫向学校申请提前毕业，要知道这次一去几年，李漫漫不想让学习耽误。

学校很快就同意了李漫漫的请求，李漫漫很快就提交了论文，再由学校组织进行毕业答辩。

李漫漫的论文是《EUV的产生与操控》，这里涉及到量子物理与等离子体物理。

EUV光源的物理机制通过高能脉冲激光（约20kW CO?激光）轰击液态锡滴（首径约20微米），产生高温等离子体（温度达30万°C）。

等离子体中的锡原子被激发，电子跃迁释放13.5nm波长的EUV光子（量子跃迁过程）。

这都己经超出本科范围了。

为了这件事，学校紧急开了会议，一致认为这是一篇博士论文。

这让李漫漫有点头疼，老师告诉李漫漫，如果可以，她可以把本科论文、硕士论文也写了。

这样可以三场论文一起，李漫漫就能博士毕业了，虽然不能一次性拿到毕业证。

李漫漫很是动心，这样可以少很多事情。

李漫漫准备《EUV的产生与操控》这篇论文，是因为马上就要用到它图方面。

李漫漫又花了一个多星期做了2篇论文，又是画图又是打字。

李漫漫现在看到论文都想吐。